skip to main content
Žiūrėti užklausą: Rodyti rezultatus: Rodyti rezultatus:
rezultatas(-ai) 1 2 3 next page
Atrinkti
Patikslintas: tema: Reactive ion etching atsisakyti tikslinimo
Result Number Material Type Add to My Shelf Action Record Details and Options
1
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Real dimensional simulation of SiO2 etching in CF4+H-2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier Ltd. 2002, Vol. 65, no. 1. p. 101-108.

ISSN: 0042-207X ; DOI: 10.1016/S0042-207X(01)00413-4.

Viso teksto dokumentas internete

2
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Real dimensional simulation of SiO2 etching in CF4 + H2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Applied Surface Science. Amsterdam : Elsevier Science B.V. 2004, Vol. 222, no. 1-4. p. 275-285.

ISSN: 0169-4332 ; DOI: 10.1016/j.apsusc.2003.08.077.

Viso teksto dokumentas internete

3
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Influence of activated polymer on the etching rate of silicon in CF4+H2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier 2006, vol. 81, no. 3. p. 230-233.

ISSN: 0042-207X ; DOI: 10.1016/j.vacuum.2006.03.022.

Viso teksto dokumentas internete

4
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Simulation of Si and SiO2 etching in CF4 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier 2008, vol. 82, no. 11. p. 1191-1193.

ISSN: 0042-207X ; DOI: 10.1016/j.vacuum.2008.01.047.

Viso teksto dokumentas internete

5
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Influence of activated polymer on the etching rate of SiO2 in CF4 + H2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Microelectronic Engineering. Amsterdam : Elsevier. 2009, Vol. 86, no. 1. p. 55-58.

ISSN: 0167-9317 ; DOI: 10.1016/j.mee.2005.08.004.

Viso teksto dokumentas internete

6
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Real dimensional simulation of anisotropic etching of silicon in CF4+O-2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas. Galdikas, Arvaidas ; Kauno technologijos universitetas ; Grigonis, Alfonsas ; Kauno technologijos universitetas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier Ltd. 2002, Vol. 66, no. 1. p. 39-47.

ISSN: 0042-207X ; DOI: 10.1016/S0042-207X(01)00418-3.

Viso teksto dokumentas internete

7
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Formation of polymeric layers using halogen-carbon plasmas.

Rutkūnienė, Živilė ; Kauno technologijos universitetas. Grigonis, Alfonsas ; Kauno technologijos universitetas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier Ltd. 2002, Vol. 68, no. 3. p. 239-244.

ISSN: 0042-207X ; DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00451-7.

Viso teksto dokumentas internete

8
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Scaling down lateral dimensions of silicon nanopillars fabricated by reactive ion etching with Au/Cr self-assembled clusters as an etch mask.

Kaliasas, Remigijus ; Kauno technologijos universitetas ; Baltrušaitis, J. ; The University of Iowa ; Mikolajūnas, Marius ; Kauno technologijos universitetas ; Jakučionis, Liudas ; Panevėžio mechatronikos centras ; Viržonis, Darius ; Kauno technologijos universitetas.

Thin Solid Films. Lausanne : Elsevier Science 2012, Vol. 520, iss. 6 1.935. p. 2041-2045.

ISSN: 0040-6090 ; DOI: 10.1016/j.tsf.2011.10.021.

Viso teksto dokumentas internete

9
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Anisotropic etching of silicon in SF6 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas. Kopustinskas, Vitoldas ; Fizikinės elektronikos institutas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier Ltd. 2004, Vol. 77, no. 1. p. 1-4.

ISSN: 0042-207X ; DOI: 10.1016/j.vacuum.2004.07.063.

Viso teksto dokumentas internete

10
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Simulation of anisotropic etching of silicon in SF6+O-2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Sensors and actuators A: Physical. Lausanne : Elsevier Science. 2006, vol. 132, no. 2. p. 726-729.

ISSN: 0924-4247.

11
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Simulation of silicon etching in CF2CL2 plasma / Rimantas Knizikevičius.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas.

Lithuanian Journal of Physics = Lietuvos fizikos žurnalas / Lithuanian Physical Society, Lithuanian Academy of Sciences. Vilnius. 2005, Vol. 45, no. 2. p. 125-131.

ISSN: 1648-8504.

12
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Influence of temperature on the formation of altered layer during silicon etching in CF2CL2 plasma.

Knizikevičius, Rimantas ; Kauno technologijos universitetas. Grigonis, Alfonsas ; Kauno technologijos universitetas.

Lithuanian Journal of Physics = Lietuvos fizikos žurnalas / Lithuanian Physical Society, Lithuanian Academy of Sciences. Vilnius. 2004, Vol. 44, no. 6. p. 477-481.

ISSN: 1648-8504.

13
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Aktyvių dalelių srauto įtaka plazma formuojamų profilių mikrogeometrijai / Živilė Rutkūnienė, Alfonsas Grigonis, Vitoldas Kopustinskas.

Rutkūnienė, Živilė ; Kauno technologijos universitetas. Grigonis, Alfonsas ; Kauno technologijos universitetas ; Kopustinskas, Vitoldas.

Vakuuminė technologija ir įranga - 97 : tarptautinės konferencijos pranešimų medžiaga. Kaunas : Technologija, 1997. p. 70-75.

14
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Simulation of dry-etching through a mask.

Galdikas, Arvaidas ; Kauno technologijos universitetas ; Pranevičius, Liudvikas ; Kauno technologijos universitetas ; Vosylius, Jonas ; Kauno technologijos universitetas.

Vacuum. Oxford : Pergamon-Elsevier Ltd. 1994, Vol. 45, no. 8. p. 907-913.

ISSN: 0042-207X.

15
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

The study of silicon surface after reactive ion etching.

Rutkūnienė, Živilė ; Kauno technologijos universitetas. Silinskas, Mindaugas ; Kauno technologijos universitetas ; Grigonis, Alfonsas ; Kauno technologijos universitetas.

Lietuvos fizikos žurnalas = Lithuanian Journal of Physics = Литовский физический журнал / Lietuvos fizikų draugija, Lietuvos mokslų akademija, Lietuvos aukštosios mokyklos. Vilnius : Fisica. 1998, T. 38, nr. 4. p. 363-367.

ISSN: 1392-1932.

16
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Ėsdinimo ypatumai formuojant gilius kanalus silicyje CF2Cl2 dujų aplinkoje / Živilė Rutkūnienė, Alfonsas Grigonis, Viktoras Grigaliūnas.

Rutkūnienė, Živilė ; Kauno technologijos universitetas. Grigonis, Alfonsas ; Kauno technologijos universitetas ; Grigaliūnas, Viktoras.

Fizika : konferencijos pranešimų medžiaga, Kauno technologijos universitetas, 1998 m. balandžio 20-21 d. Kaunas : Technologija, 1998. p. 154-157.

ISBN: 9986136229.

17
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Элементное и структурное состояние поверхностного слоя кремния и образование диэлектрических покрытий на нем в процессах РИТ и РИЛТ.

Grigonis, Alfonsas ; [[Григонис, Альфонсас]] ; Kauno technologijos universitetas.

Lietuvos fizikos rinkinys = Литовский физический сборник : mokslinis žurnalas / Lietuvos fizikų draugija, Lietuvos mokslų akademija. Vilnius : Fisica 1992, T. 32, nr. 5. p. 698-704.

ISSN: 0024-2969.

18
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

РИЛТ арсенида галлия во фреоне при большом содержании кислорода.

Grigonis, Alfonsas ; [[Григонис, Альфонсас]] ; Kauno technologijos universitetas.

Физика и техника плазмы : материалы конференции, Минск, Беларусь, 13-15 сентября 1994 / Академия наук Беларуси и др. p. 216-219.

19
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Шепетина реактивного ионно лучевого травления арсенида галлия.

Grigonis, Alfonsas ; [[Григонис, Альфонсас]] ; Kauno technologijos universitetas.

Lietuvos fizikos žurnalas = Lithuanian Journal of Physics = Литовский физический журнал / Lietuvos fizikų draugija, Lietuvos mokslų akademija, Lietuvos aukštosios mokyklos. Vilnius : Fisica. 1994, T. 34, nr. 5. p. 437-442.

ISSN: 0024-2969.

20
Material Type:
Straipsnis
Įrašyti į e. lentyną

Anisotropy of etching in low pressure plasma.

Abraitis, Vaidotas Blažiejus ; Kauno technologijos universitetas ; Galdikas, Arvaidas ; Kauno technologijos universitetas ; Lietuvos energetikos institutas ; Pranevičius, Liudvikas ; Kauno technologijos universitetas ; Vosylius, Jonas ; Kauno technologijos universitetas.

Electron Technology / Institute of Electron Technology of Polish Academy of Sciences. Warszawa : Polish Scientific Publishers 1993, Vol. 26, no. 1. p. 65-81.

ISSN: 0070-9816.

rezultatas(-ai) 1 2 3 next page

Individualizuokite paieškos rezultatus

  1. Keisti

Refine Search Results

Išplėsti paieškos rezultatus

  1.   

Atrinkti

  1. internete (18)

Prašome palaukti. Paieška gali užtrukti kelias minutes

  • Ieškoma
  • čiascope:(DBB01KTU),scope:(KTU01),scope:(KTU02),scope:(OCL02),scope:(OCL01),scope:(EBK01),scope:(EBK02),scope:(QKTU),scope:(QKTUASI),scope:(QKTUFEI),scope:(QKTUMI),scope:(YKTUMI),scope:(XKTUASI),scope:(YKTU),scope:(WKTU),scope:(WKTUASI),scope:(WKTUFEI),scope:(WKTUMI),scope:(XKTU),scope:(XKTUFEI),scope:(YKTUASI),scope:(YKTUFEI),scope:(XKTUMI),EbscoLocal,primo_central_multiple_fe
  • Sustabdyti paiešką ir peržiūrėti rezultatus